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Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l'anglais physical vapor deposition) est un ensemble de méthodes de dépôt sous vide de films minces :. Dépôts physiques en phase vapeur. Physical vapor deposition. Atomes évaporés. Condensation. Formation d'un Méthodes de dépôt physique: Evaporation. Pour la PVD, elle est produite par un phénomène purement physique. Caractéristiques communes aux techniques CVD et PVD. Page 5. Réacteur CVD générique. dépôt physique et chimique en phase vapeur, respectivement PVD et CVD, seront détaillées ainsi que les propriétés des films d'alumine obtenus. Le dépôt physique en phase vapeur ( PVD ), parfois (en particulier dans les contextes de croissance monocristalline ) appelé transport physique de vapeur L'équipement CT100 Alliance Concept permet le dépôt en couches minces de nombreux matériaux grâce au procédé PVD (dépôt physique en phase vapeur) avec une Le dépôt physique en phase vapeur ou dépôt physique en phase vapeur, souvent abrégé en PVD, est une méthode courante pour le dépôt sous vide de films minces